MA Direkte Nanostrukturierung von Photoresists mit tief-ultravioletter (DUV) Laserstrahlung
20.04.2024
Fraunhofer ILT
Aachen
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Aktualität: 20.04.2024
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MA Direkte Nanostrukturierung von Photoresists mit tief-ultravioletter (DUV) Laserstrahlung
Selbstständige Planung und Durchführung von Versuchen zur Grundlagenforschung und Prozessoptimierung Auswerten und Präsentieren der Ergebnisse Unterstützung bei der Planung, dem Aufbau und der Durchführung von Experimenten Durchführung von Experimenten
Du studierst Physik, Maschinenbau, Elektrotechnik, Informationstechnik, Werkstoffwissenschaften oder einen vergleichbaren Studiengang Interesse an Lasern, Nanotechnologie, der Herstellung komplexer Bauteile und der Entwicklung neuer Verfahren oder dem Verständnis und der Verbesserung bestehender Verfahren Vorkenntnisse in der Laser- und Halbleitertechnik sind von Vorteil, aber nicht zwingend erforderlich
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